光刻胶是一种高精尖材料，主要用作微小图形的加工，位于电子材料的制高点。光刻胶可分为PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶三大类。

　　其中，半导体光刻胶处于最高端，是光刻工艺中必不可少的材料，也是三者中我国受垄断最为严峻的材料。

　　随着光刻工艺演进，半导体光刻胶又可分为g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶与EUV光刻胶。光刻胶分辨率依次提升，制备难度也越来越高。越是高端的光刻胶，我国遭受垄断的情况越高。

　　数据显示，全球超87%的光刻胶市场，被日本JSR、TOK、住友化学、信越化学、美国罗门哈斯、富士电子材料这6家日美企业所垄断。

　　据前瞻产业链一份数据先显示，在KrF光刻胶、ArF光刻胶这两种高端光刻胶上，我国的国产化率只有1%。

　　在2019年日韩贸易摩擦时，日本通过限制对韩出口光刻胶的手段，给韩国半导体迎头一击。

　　有韩国的前车之鉴，为实现国产芯片自主可控，我国光刻胶不能就这样受制于人。

　　光刻胶在精细化工领域，是技术壁垒最高的材料。光刻胶生产工艺本就十分复杂，需要大量的资金支持，而且还品种繁多，用量较少。这进一步加大了光刻胶研发难度。

　　光刻胶厂商往往会同上游原料供应商联手合作，共同推进光刻胶技术研发，以应对光刻胶更新换代较快的情况，并实现对技术的保密。

　　目前，光刻胶领域已经呈现出高度垄断的现状，留给中国企业的市场寥寥无几，许多企业只能在低端领域求生。

　　尽管突围难度颇高，但不少中国厂商依然选择前行。在国家政策的扶持下，中国涌现出南大光电、上海新阳、晶瑞股份等中国光刻胶龙头企业。

　　2020年12月，上海新阳采购的三台二手ASML-1400光刻机已经陆续到位，这些光刻机将用于ArF（193nm）干法光刻胶研发、验证。

　　2021年3月11日，上海新阳发布公告称，公司成功中标，购得一台ASML XT 1900 Gi型二手光刻机。

　　该光刻机价格用作28nm高端光刻胶的研发，是对上海新阳ArF湿法光刻胶技术先进性的设备保障。

　　2020年，南大光电研发的ArF光刻胶通过客户使用认证，成功填补了我国高端光刻胶的空白。这也是我国首支通过产品验证的国产ArF光刻胶。

　　而在最顶尖的EUV光刻胶领域，北京科华参与的国家重大专项EUV光刻胶项目已经通过验收。

　　随着中国半导体产业的快速发展，光刻胶需求量也将有效提升。同时，叠加国产替代的浪潮，这给中国光刻胶带来了新的发展机遇。返回搜狐，查看更多