早在1822年法国人Nicephore niepce研发出了光刻机，而当时的中国还处于道光年间，处于自己天朝上国的愚昧思想中，进行着自以为很好的闭关锁国的国策。殊不知远在西方的国家早已有了这里历史性的改变。随后在西方不断的工业革命中，光刻的技术不断的增强，涌现出荷兰ASML、日本尼康等光刻机方面的龙头公司。

　　其实在上世纪60年代时我国与西方国家的光刻机技术相差并不大。甚至某种程度上还处于领先状态，毕竟大家都是在60年代开始正式的研发光刻机。但是在80年代，可能是由于经费的原因，也有可能是国家对于电子的不重视。导致当时我国的光刻机研发进度出现了停滞。也正是在这个时期，世界上光刻机有关的技术公司正处于群雄并起的时期，都在努力的抢占着世界的市场份额。

　　在进入本世纪后，光刻机技术终于再次被国家重视起来，然而这时我国的光刻机技术已经好多年没有存进，当时的西方媒体大肆宣扬中国是不可能赶上来的，因为在技术上他们已经落后了30年。上海微电子的研发人员可以说是临危受命，他们不亚于当年中国的研发，一切都好像是从零开始。他们背负着国家的期望，同时也是中国自主光刻机领域的一面代表中国自主研发的鲜明旗帜。

　　自上海微电子成立以后，他们的技术近几年一直停滞在90nm的水平，要知道这几年世界上最先进的光刻机已经掌握了5nm的技术。这使得大部分人对于中国光刻机的前景不太看好。但是今日爆出上海微电子已经研发出22nm的光刻机技术，这表明现在光刻机的水平已经达到很高的水平，中国的光刻机研发进程迈出了划时代的一大步。22nm的光刻机技术已经可以满足世界中低端市场的需求，这也就是说我国已经具备了世界上极少数国家才拥有的全球光刻机市场的入场券。

　　但也有一些消息称上海微电子研发出的是28nm。这些消息难分线nm都表明我国长期以来对于光科技领域投入的精力和经济终于带来了回报。而且一下跻身世界中上的水平。

　　上海微电子22nm研发成功的消息是华为美国被制裁之后的大好消息，我国的光刻机技术这某种程度上已经打破了西方相关技术的垄断，走上了正轨。再者22nm光刻机的问世也是对西方媒体无声的有力回击，增强了中国群众的自信心。

　　但是在兴奋的同时我们也不可以狂妄自大，走道清朝的老路。认不清自我的时候通常距离灭亡也就不远了。虽然我国22nm成功研发，但是当今世界最先进的技术已经达到了5nm甚至3nm。中国光刻机的研发之路还是任重而道远。

　　中国人从古至今都具有迎难而上、脚踏实步的精神。有曾经核潜艇、和氢弹的有无到有到的经历，我相信中国的光刻机技术也会在未来实现弯道超车，成功到达世界前列。而这个过程需要我们孜孜不倦的奋斗。