众所周知，ASML在光刻机领域处于“龙头”地位，不管是台积电还是三星都费尽心思希望能够更多的采购ASML的光刻机，因为更多的光刻机意味着更多的产能。可以这样说，台积电或者三星想要生产高端芯片，ASML的EUV光刻机是必不可少的，所以ASML的光刻机一直是供不应求的状态。

　　之前ASML是非常傲娇的，中芯国际曾经斥资10亿向ASML采购了一台光刻机，直到现在也迟迟收不到货，而且还敢怒不敢言。说句不好听的，ASML的光刻机就是香饽饽，只有买到了这个香饽饽才能在芯片制造方面更进一步。

　　但是近日一向傲娇的ASML却开始慌了，宣布针对我国出售的28nm光刻机进行降价！不少业内人士认为，ASML之所以作出这样决定是因为我国的光刻机迎来了新进展！

　　据悉，上海微电子所生产的28nm光刻机已经通过了相关测试，预计在今年年末或明年年初就可量产。可能有读者认为ASML的光刻机都能生产5nm制程芯片了，上海微电子的28nm光刻机有什么值得骄傲的？

　　要知道我们是从90nm直接跨入了28nm大关，而且28nm光刻机也可以实现生产14nm甚至7nm制程芯片。虽然28nm光刻机跟目前ASML的DUV、EUV光刻机还有一段差距，但是这显然让ASML意识到了危机感。

　　自美方开始打压华为以来，我们认识到了自身的不足，也深深的明白只有将核心科技掌握在自己手中才能真正的掌握话语权。故而我国的半导体行业正在以迅猛之势发展，中科院倪光南院士曾表态，什么卡脖子我们就要研发什么，很明显光刻机就在中科院的研发清单之中。

　　现在上海微电子在光刻机方面有了这么大的进展，ASML慌了也是意料之中。为何这么说呢？主要有三方面：

　　其一，ASML跟美方有着千丝万缕的联系，美方限制中国企业的时候自然也引起了我国人民的不满，故而“去美化”的呼声也越来越大。而ASML又不想失去中国这个庞大的市场，此前ASML高管也多次向我国示好，表示DUV光刻机是可以出售给我国的。并且表示了不能出售EUV光刻机，ASML也非常无奈。

　　其二，摩尔定律已经维持得十分艰难了，ASML想要研发更为精密的光刻机难度非常大，并且能不能成功都不好说。故而ASML也表示过，在下一代NA EUV光刻机之后，ASML将完成从研发先进光刻机到对环境更为友好的光刻机的转变。而我国的28nm光刻机即将量产，那么必然会分流一部分市场，这是ASML不愿意看到的。

　　其三，这两年我国半导体行业蓬勃发展自然也离不开国家的大力扶持，之前国务院就提出了明确要求：五年内我国的芯片自给率要达到75%。这不仅是对我国芯片行业提出的要求，其实也是在保护我国半导体的相关企业，让他们能够进一步提高营收，并且将主动权掌握在我们自己手中。如果芯片自给率增加，我们进口的芯片自然就少了，到时候美方再想断供芯片对我们影响也不会太大。

　　总的来说，国产光刻机虽然暂时为28nm制程，但是从90nm到28nm本来就是一个巨大的飞跃。而且国产光刻机对于我们来说的意义非凡，真的是可喜可贺！希望更多的半导体企业都能潜心研发，早日让我们的芯片制造技术处于世界主流水平。

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