EUV光刻机虽然先进，但是成本也高，而且高端工艺甚至需要双重光刻，也就是用EUV光刻机曝光两次，生产工序就需要重复两次，比如蚀刻、清洗、沉积、去胶等等，无疑会增加成本。

　　美国半导体设备大厂应用材料现在推出Centura Sculpta曝光系统设备，将原本需要双重曝光的EUV光刻工艺简化到了单次曝光，大大降低了设计成本和复杂性，并且消除了双重曝光所需的对准导致的良率问题。

　　根据应用材料的说法，采用该系统的芯片制造商如果运行一条每月加工10万片晶圆的生产线亿美元的资本成本。

　　此外，每片晶圆的成本将减少约50美元，所需能源也将减少15千瓦时，还将减少15升水的需求，减少0.35千克的二氧化碳排放。

　　这个新设备已经有Intel投入使用了，三星及台积电用没用还没公布，但是Intel无疑会走在降低成本的前列。